1. (2021·北京) 高纯CO可用于半导体领域某些芯片的刻蚀，利用甲酸（HCOOH）制取高纯CO的主要流程如下：

1. （1） 甲酸中碳元素和氧元素的质量比为。
3. （2） 反应塔中甲酸分解的微现示意图如下，在方框中补全另一种产物的微粒图示。

   

5. （3） 反应塔中发生副反应产生微量CO₂。洗涤器中加入NaOH溶液的目的是中和未反应的甲酸蒸气，并除去CO₂ ， NaOH与CO₂反应的化学方程式为。