• 1. (2020九上·东城期末) 利用氢氟酸（HF）蚀刻玻璃，发生的化学方程式为：SiO₂ +4HF =X↑+2H₂O，物质X为（ ）

  A . SiO B . SiF₄ C . SiF D . F₂