1.
(2019·青岛)
高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅的化学反应原理为：
①SiO2+2C 
Si +2CO↑、②Si+3HCl 
HSiCl3+H2、③HSiCl3+H2 Si+3X，反应①制得粗硅，通过反应②③进一步得到高纯硅；三氯硅烷(HSiCl3)的沸点是31.8℃。下列有关说法错误的是（ ）
A . 反应③中X的化学式为HCl
B . 三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成
C . 三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为1∶3
D . 反应②③实现了硅元素的富集，将粗硅转化为高纯硅
